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  Lithography-free approaches to patterned multilayers based on wrinkling

Fery, A., Böker, A., Hanske, C., Horn, A., Lu, C. H., Pretzl, M., et al. (2008). Lithography-free approaches to patterned multilayers based on wrinkling. Abstracts of Papers of the American Chemical Society, 236: 86-PMSE.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0015-52E2-7 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0007-540E-C
Genre: Meeting Abstract

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https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0007-4F80-0
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Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Fery, A., Autor
Böker, A., Autor
Hanske, C., Autor
Horn, A., Autor
Lu, C. H.1, Autor           
Pretzl, M., Autor
Schweikart, A., Autor
Affiliations:
1Grenzflächen, Max Planck Institute of Colloids and Interfaces, Max Planck Society, ou_1863287              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2008
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: eDoc: 456362
ISI: 000270280001144
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Abstracts of Papers of the American Chemical Society
  Alternativer Titel : Abstr. Pap. Am. Chem. Soc.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 236 Artikelnummer: 86-PMSE Start- / Endseite: - Identifikator: ISSN: 0065-7727