Particle-beam experiment to study heterogeneous surface reactions relevant to 
plasma-assisted thin film growth and etching

Jacob, W.; Hopf, C.; von Keudell, A.; Meier, M.; Schwarz-Selinger, T.

doi:10.1063/1.1628845

Particle-beam experiment to study heterogeneous surface reactions relevant to plasma-assisted thin film growth and etching

Jacob, W., Hopf, C., von Keudell, A., Meier, M., & Schwarz-Selinger, T. (2003). Particle-beam experiment to study heterogeneous surface reactions relevant to plasma-assisted thin film growth and etching. Review of Scientific Instruments, 74(12), 5123-5136. doi:10.1063/1.1628845.

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資料種別: 学術論文

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Jacob, W.^{1, 2}, 著者
Hopf, C.^{1, 2}, 著者
von Keudell, A.^{1, 2}, 著者
Meier, M.^{1, 2}, 著者
Schwarz-Selinger, T.^{1, 2}, 著者

所属:
1Centre for Interdisciplinary Plasma Science (CIPS), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_2074325
2Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288

内容説明

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言語: eng - English

日付: 出版: 2003

出版の状態: 出版

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出版情報: -

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査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 60877
DOI: 10.1063/1.1628845
URI: http://ojps.aip.org/getpdf/servlet/GetPDFServlet?filetype=pdf&id=RSINAK000074000012005123000001&idtype=cvips
その他: CIPS Reprint No. 137

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出版物名: Review of Scientific Instruments

出版物の別名 : Rev. Sci. Instrum.

種別: 学術雑誌

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ページ: - 巻号: 74 (12) 通巻号: - 開始・終了ページ: 5123 - 5136 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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