Investigation of the Influence of Substrate Temperature and Bias Voltage on the 
Crystal Structure of Vacuum Arc Deposited Al2O3 Coatings

Beguiristain Repáraz, I.

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Investigation of the Influence of Substrate Temperature and Bias Voltage on the Crystal Structure of Vacuum Arc Deposited Al₂O₃ Coatings

Beguiristain Repáraz, I. (2001). Investigation of the Influence of Substrate Temperature and Bias Voltage on the Crystal Structure of Vacuum Arc Deposited Al₂O₃ Coatings. Diploma Thesis, Universidad de Navarra, San Sebastián.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-454D-7 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0006-BFFD-7

資料種別: 学位論文

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Beguiristain Repáraz, I.¹, 著者

所属:
1Material Research (MF), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856328

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言語: eng - English

日付: 受理: 2001出版: 2001

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: San Sebastián : Universidad de Navarra

目次: -

査読: -

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 217867

学位: 学士号 (Diploma)

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