Chemical sputtering of a-C:H films by simultaneous exposure to energetic Ar+ 
ions and water vapor

Hopf, C.; Schlüter, M.; Jacob, W.

Chemical sputtering of a-C:H films by simultaneous exposure to energetic Ar⁺ ions and water vapor

Hopf, C., Schlüter, M., & Jacob, W. (2008). Chemical sputtering of a-C:H films by simultaneous exposure to energetic Ar⁺ ions and water vapor. Journal of Physics: Conference Series, 100:. Retrieved from http://dx.doi.org./10.1088/1742-6596/100/6/062012.

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資料種別: 学術論文

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Hopf, C.¹, 著者
Schlüter, M.², 著者
Jacob, W.³, 著者

所属:
1ITER Technology & Diagnostics (ITED), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856290
2External Organizations, ou_persistent22
3Material Research (MF), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856328

内容説明

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キーワード: 17th International Vacuum Congress (IVC-17), 13th International Conference on Surface Science (ICSS-13) and International Conference on Nanoscience and Technology (ICN+T 2007), Stockholm, 2007-07-02 to 2007-07-06

要旨: -

資料詳細

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言語: eng - English

日付: 出版: 2008

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 319406
URI: http://dx.doi.org./10.1088/1742-6596/100/6/062012

学位: -

訴訟

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出版物名: Journal of Physics: Conference Series

種別: 学術雑誌

著者・編者:

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出版社, 出版地: IoP

ページ: - 巻号: 100 通巻号: 062012 (4pp) 開始・終了ページ: - 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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