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  Combined Magnetron Sputtering and Ion Implantation - a High Energy Ion Assisted Deposition Method for Producing Nano-structurated Coatings

Ruset, C., Grigore, E., Maier, H., & Neu, R. (2007). Combined Magnetron Sputtering and Ion Implantation - a High Energy Ion Assisted Deposition Method for Producing Nano-structurated Coatings. In Processing and Product Manufacturing: Surface Engineering Using Hybrid Plasma Assisted PVD and CVD Technologies, Nanostructured Coatings (pp. 549-561).

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-0AE9-A Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-0AEA-8
Genre: Konferenzbeitrag

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Ruset, C.1, Autor
Grigore, E.1, Autor
Maier, H.2, Autor
Neu, R.3, Autor           
Affiliations:
1National Institute for Laser, Plasma and Radiation Physics, 409 Atomistilor Street, P.O. Box MG-36 Code 077125, Bucharest-Magurele, Romania, ou_persistent22              
2Max Planck Society, ou_persistent13              
3Tokamak Edge and Divertor Physics (E2), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856308              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2007
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Interne Begutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 442994
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Titel: Materials Science & Technology 2007 Conference (MS&T’07)
Veranstaltungsort: Detroit, MI
Start-/Enddatum: 2007-09-16 - 2007-09-20

Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Processing and Product Manufacturing: Surface Engineering Using Hybrid Plasma Assisted PVD and CVD Technologies, Nanostructured Coatings
Genre der Quelle: Konferenzband
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: CD-ROM Band / Heft: - Artikelnummer: - Start- / Endseite: 549 - 561 Identifikator: ISBN: 978-0-87170-866-3