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  Comparison of chemical sputtering yields for different graphites at high ion flux densities

Grote, H., Bohmeyer, W., Reiner, H.-D., Fuchs, T., Kornejew, P., & Steinbrink, J. (1997). Comparison of chemical sputtering yields for different graphites at high ion flux densities. Journal of Nuclear Materials, 241-243, 1152-1155. doi:10.1016/S0022-3115(96)00690-3.

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基本情報

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資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Grote, H.1, 2, 3, 著者           
Bohmeyer, W.3, 著者           
Reiner, H.-D.3, 著者           
Fuchs, T.3, 著者           
Kornejew, P.3, 著者           
Steinbrink, J.4, 著者
所属:
1Experimental Plasma Physics 2 (E2), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856292              
2W7-X: Construction, Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856314              
3Plasma Diagnostics Group (HUB), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856324              
4Max Planck Society, ou_persistent13              

内容説明

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キーワード: 12th International Conference on Plasma Surface Interactions in Controlled Fusion Devices (PSI 12), St. Raphael (France), 1996-05-20 to 1996-05-24
 要旨: -

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 1997
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 学位: -

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訴訟

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出版物 1

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出版物名: Journal of Nuclear Materials
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: -
ページ: - 巻号: 241-243 通巻号: - 開始・終了ページ: 1152 - 1155 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): -