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  Sputtering of boron‐doped graphite USB15—Investigation of the origin of low chemical erosion

Schwörer, R., & Roth, J. (1995). Sputtering of boron‐doped graphite USB15—Investigation of the origin of low chemical erosion. Journal of Applied Physics, 77(8), 3812-3817. doi:10.1063/1.359560.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-8ED1-A Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-8ED2-8
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Schwörer, R.1, Autor           
Roth, J.1, Autor           
Affiliations:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 1995
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: eDoc: 627748
DOI: 10.1063/1.359560
URI: http://jap.aip.org/resource/1/japiau/v77/i8/p3812_s1
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Applied Physics
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 77 (8) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 3812 - 3817 Identifikator: -