Surface Processes which Control the Deposition and Etching in the SiH4H2
/Si(s)-Glow Discharge System

Veprek, S.; Ratz, G.; Meindl, K.; Möller, W.

Surface Processes which Control the Deposition and Etching in the SiH₄H₂/Si(s)-Glow Discharge System

Veprek, S., Ratz, G., Meindl, K., & Möller, W. (1991). Surface Processes which Control the Deposition and Etching in the SiH₄H₂/Si(s)-Glow Discharge System. In H. A., Atwater, F. A., Houle, & D. H., Lowndes (Eds.), Surface Chemistry and Beam-Solid Interactions, Symposium (pp. 19-24). Pittsburgh, PA: Materials Research Society.

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-967A-B 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-967B-9

資料種別: 会議論文

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Veprek, S., 著者
Ratz, G., 著者
Meindl, K., 著者
Möller, W.¹, 著者

所属:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288

内容説明

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資料詳細

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言語: eng - English

日付: 出版: 1991

出版の状態: 出版

ページ: -

出版情報: -

目次: -

査読: 査読あり（内部）

識別子（DOI, ISBNなど）: eDoc: 630200

学位: -

訴訟

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出版物 1

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出版物名: Surface Chemistry and Beam-Solid Interactions, Symposium

種別: 会議論文集

著者・編者:
Atwater, H. A., 編集者
Houle, F. A., 編集者
Lowndes, D. H., 編集者

所属:
-

出版社, 出版地: Pittsburgh, PA : Materials Research Society

ページ: - 巻号: - 通巻号: - 開始・終了ページ: 19 - 24 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISBN: 1-55899-093-3

出版物 2

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出版物名: Materials Research Society Symposium Proceedings

種別: 連載記事

著者・編者:

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: 201 通巻号: - 開始・終了ページ: - 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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