Depth Profiling of Implanted exp.3_He in Solids by Nuclear Reaction and 
Rutherford Backscattering

Roth, J.; Meyer, O.; Behrisch, R.; Eckstein, W.; Scherzer, B.M.U.

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Depth Profiling of Implanted exp.3_He in Solids by Nuclear Reaction and Rutherford Backscattering

Roth, J., Meyer, O., Behrisch, R., Eckstein, W., & Scherzer, B. (1976). Depth Profiling of Implanted exp.3_He in Solids by Nuclear Reaction and Rutherford Backscattering. In Ion Beam Surface Layer Analysis (pp. 47-54).

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-B8AC-5 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-B8AD-3

資料種別: 書籍の一部

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Roth, J.¹, 著者
Meyer, O.², 著者
Behrisch, R.¹, 著者
Eckstein, W.¹, 著者
Scherzer, B.M.U.², 著者

所属:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288
2External Organizations, ou_persistent22

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日付: 出版: 1976

出版の状態: 出版

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出版物 1

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出版物名: Ion Beam Surface Layer Analysis

種別: 書籍

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出版社, 出版地: -

ページ: - 巻号: Vol. 1 通巻号: - 開始・終了ページ: 47 - 54 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: -

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