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  A High Yield RF Plasma Source for Neutral Beam Injection Systems

Kraus, W., Van Ingen, A., Kaufmann, M., Nijsen-Vis, A., Klippel, H., & ), (. (1989). A High Yield RF Plasma Source for Neutral Beam Injection Systems. Fusion Technology 1988, Vol. 1, 495-498.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-C1D0-C Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-C1D1-A
Genre: Konferenzbeitrag

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Kraus, W.1, Autor           
Van Ingen, A.M.2, Autor
Kaufmann, M.3, Autor           
Nijsen-Vis, A.2, Autor
Klippel, H.T.2, Autor
), (Eds.2, Autor
Affiliations:
1Technology (TE), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856318              
2External Organizations, ou_persistent22              
3Experimental Plasma Physics 1 (E1), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856295              

Inhalt

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Details

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Sprache(n):
 Datum: 1989
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: -
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Titel: 15.Symposium on Fusion Technology
Veranstaltungsort: Amsterdam Utrecht (NL)
Start-/Enddatum: -

Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Fusion Technology 1988
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: North-Holland Publ.
Seiten: - Band / Heft: Vol. 1 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 495 - 498 Identifikator: -