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  Physical Sputtering of Low-Z Materials

Gauthier, E., Eckstein, W., Laszlo, J., & Roth, J. (1990). Physical Sputtering of Low-Z Materials. Journal of Nuclear Materials, 176-177, 438-444. doi:10.1016/0022-3115(90)90086-3.

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Externe Referenzen

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externe Referenz:
http://dx.doi.org/10.1016/0022-3115(90)90086-3 (Verlagsversion)
Beschreibung:
-
OA-Status:

Urheber

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 Urheber:
Gauthier, E.1, Autor           
Eckstein, W.1, Autor           
Laszlo, J.2, Autor           
Roth, J.1, Autor           
Affiliations:
1Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288              
2Material Research (MF), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856328              

Inhalt

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Schlagwörter: Konferenzbeitrag
 Zusammenfassung: -

Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 1990
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: DOI: 10.1016/0022-3115(90)90086-3
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Nuclear Materials
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Amsterdam : Elsevier B.V.
Seiten: - Band / Heft: 176-177 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 438 - 444 Identifikator: ISSN: 0022-3115
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925416962