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  Evaluation of an Advanced Silicon Doped CFC for Plasma Facing Material

Wu, C., Varandas, C., Alessandrini, C., Serra, F., Bonal, P., Grote, H., et al. (1997). Evaluation of an Advanced Silicon Doped CFC for Plasma Facing Material. Fusion Technology, Vol. 1, 327-330.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-D099-2 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-D09A-F
Genre: Konferenzbeitrag

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Wu, C.H.1, Autor
Varandas, C.1, Autor
Alessandrini, C.1, Autor
Serra, F.1, Autor
Bonal, P.1, Autor
Grote, H.2, 3, 4, Autor           
Balden, M.5, Autor           
Vieider, G.1, Autor
et al.1, Autor
Affiliations:
1External Organizations, ou_persistent22              
2Experimental Plasma Physics 2 (E2), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856292              
3W7-X: Construction, Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856314              
4Plasma Diagnostics Group (HUB), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856324              
5Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856288              

Inhalt

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Details

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Sprache(n):
 Datum: 1997
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: -
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Titel: 19. SOFT
Veranstaltungsort: Amsterdam Lisbon (PT)
Start-/Enddatum: -

Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Fusion Technology
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Elsevier
Seiten: - Band / Heft: Vol. 1 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 327 - 330 Identifikator: -