Evaluation of an Advanced Silicon Doped CFC for Plasma Facing Material

Wu, C.H.; Varandas, C.; Alessandrini, C.; Serra, F.; Bonal, P.; Grote, H.; Balden, M.; Vieider, G.; et al.,

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Konferenzbeitrag

Evaluation of an Advanced Silicon Doped CFC for Plasma Facing Material

MPG-Autoren

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Grote, H.
Experimental Plasma Physics 2 (E2), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;
W7-X: Construction, Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;
Plasma Diagnostics Group (HUB), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

/persons/resource/persons108606

Balden, M.
Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

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Zitation

Wu, C., Varandas, C., Alessandrini, C., Serra, F., Bonal, P., Grote, H., et al. (1997). Evaluation of an Advanced Silicon Doped CFC for Plasma Facing Material. Fusion Technology, Vol. 1, 327-330.

Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-D099-2

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