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  Microstructure and intrinsic stress evolution during epitaxial film growth of an Ag0.93Al0.07 solid solution on Si(111); excessive planar faulting due to quantum confinement

Flötotto, D., Wang, Z. M., Markel, I., Kurz, S., & Mittemeijer, E. J. (2016). Microstructure and intrinsic stress evolution during epitaxial film growth of an Ag0.93Al0.07 solid solution on Si(111); excessive planar faulting due to quantum confinement. Journal of Applied Crystallography, 120(15):. doi:10.1063/1.4964945.

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基本情報

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アイテムのパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-002D-1BF6-8 版のパーマリンク: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-002D-1D10-5
資料種別: 学術論文

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作成者

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 作成者:
Flötotto, David1, 著者           
Wang, Z. M.2, 著者
Markel, Ingo1, 著者           
Kurz, Silke1, 著者           
Mittemeijer, Eric Jan1, 3, 著者           
所属:
1Dept. Phase Transformations; Thermodynamics and Kinetics, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society, ou_1497644              
2School of Materials Science and Engineering, Tianjin University, Tianjin 300350, China, ou_persistent22              
3Institut für Materialwissenschaft, Universität Stuttgart, Heisenbergstraße 3, 70569 Stuttgart, Germany, ou_persistent22              

内容説明

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キーワード: Abt. Mittemeijer
 要旨: -

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2016-10-202016
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子（DOI, ISBNなど）: DOI: 10.1063/1.4964945
 学位: -

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訴訟

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出版物 1

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出版物名: Journal of Applied Crystallography
  省略形 : J. Appl. Cryst.
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: Oxford, England : Blackwell Publishing on behalf of the International Union of Crystallography
ページ: - 巻号: 120 (15) 通巻号: 155305 開始・終了ページ: - 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISSN: 0021-8898
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925410812