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  Laser multiphoton ionization spectrum of AlCH3 radicals formed by UV excimer laser photolysis of gaseous TMA at 248 nm and 193 nm.

Zhang, Y., & Stuke, M. (1988). Laser multiphoton ionization spectrum of AlCH3 radicals formed by UV excimer laser photolysis of gaseous TMA at 248 nm and 193 nm. Japanese Journal of Applied Physics, 27(2): 7. doi:10.1143/JJAP.27.L1349.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-002D-BD27-E Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-002D-BD2B-6
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Zhang, Y.1, Autor           
Stuke, M.1, Autor           
Affiliations:
1Abteilung Laserphysik, MPI for biophysical chemistry, Max Planck Society, ou_578547              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 1988-07
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: DOI: 10.1143/JJAP.27.L1349
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Japanese Journal of Applied Physics
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: 3 Band / Heft: 27 (2) Artikelnummer: 7 Start- / Endseite: - Identifikator: -