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  Characterization of thin film displacements in the electron microscope

Sawada, H., Ramlau, R., Allen, C. S., & Kirkland, A. I. (2017). Characterization of thin film displacements in the electron microscope. Applied Physics Letters, 111(20): 203104, pp. 1-5. doi:10.1063/1.4999003.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-002E-55EE-6 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-002E-55F1-D
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Sawada, Hidetaka1, Autor
Ramlau, Reiner2, Autor           
Allen, Christopher S.1, Autor
Kirkland, Angus I.1, Autor
Affiliations:
1External Organizations, ou_persistent22              
2Chemical Metal Science, Max Planck Institute for Chemical Physics of Solids, Max Planck Society, ou_1863405              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 2017-11-172017-11-17
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: -
 Identifikatoren: URI: https://doi.org/10.1063/1.4999003
DOI: 10.1063/1.4999003
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Applied Physics Letters
  Kurztitel : Appl. Phys. Lett.
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Melville, NY : American Institute of Physics
Seiten: - Band / Heft: 111 (20) Artikelnummer: 203104 Start- / Endseite: 1 - 5 Identifikator: Anderer: 0003-6951
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954922836223