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  Excimer laser replication of ion-implanted photomasks.

Stangl, B., Mitterauer, J., Ruedenauer, F. G., & Marowsky, G. (1985). Excimer laser replication of ion-implanted photomasks. Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, 3(2), 477-480. doi:10.1116/1.583302.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0001-6514-7 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0001-6516-5
Genre: Zeitschriftenartikel

Externe Referenzen

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Urheber

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 Urheber:
Stangl, B., Autor
Mitterauer, J., Autor
Ruedenauer, F. G., Autor
Marowsky, G.1, Autor           
Affiliations:
1Abteilung Laserphysik, MPI for biophysical chemistry, Max Planck Society, ou_578547              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 1985
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: DOI: 10.1116/1.583302
 Art des Abschluß: -

Veranstaltung

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: -
Seiten: - Band / Heft: 3 (2) Artikelnummer: - Start- / Endseite: 477 - 480 Identifikator: -