Excimer laser replication of ion-implanted photomasks.

Stangl, B.; Mitterauer, J.; Ruedenauer, F. G.; Marowsky, G.

doi:10.1116/1.583302

アイテム詳細

登録内容を編集ファイル形式で保存

一時保存へ追加

タグ情報を表示リリース履歴を表示詳細要約

公開

学術論文

Excimer laser replication of ion-implanted photomasks.

MPS-Authors

/persons/resource/persons15492

Marowsky, G.
Abteilung Laserphysik, MPI for biophysical chemistry, Max Planck Society;

External Resource

There are no locators available

Fulltext (restricted access)

There are currently no full texts shared for your IP range.

フルテキスト (公開)

公開されているフルテキストはありません

付随資料 (公開)

There is no public supplementary material available

引用

Stangl, B., Mitterauer, J., Ruedenauer, F. G., & Marowsky, G. (1985). Excimer laser replication of ion-implanted photomasks. Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures, 3(2), 477-480. doi:10.1116/1.583302.

引用: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0001-6514-7

要旨

要旨はありません