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  Effect of bias voltage on microstructure and optical properties of Al2O3 thin films prepared by twin targets reactive high power impulse magnetron sputtering

Zhou, G., Wang, L., Wang, X., Yu, Y., & Mutzke, A. (2019). Effect of bias voltage on microstructure and optical properties of Al2O3 thin films prepared by twin targets reactive high power impulse magnetron sputtering. Vacuum, 166, 88-96. doi:10.1016/j.vacuum.2019.04.060.

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Basisdaten

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Datensatz-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0003-ADFA-1 Versions-Permalink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0006-5A9A-8
Genre: Zeitschriftenartikel

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Externe Referenzen

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externe Referenz:
https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2019.04.060 (Verlagsversion)
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Urheber

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 Urheber:
Zhou, G.1, Autor
Wang, L.1, Autor
Wang, X.1, Autor
Yu, Y.1, Autor
Mutzke, A.2, Autor           
Affiliations:
1External Organizations, ou_persistent22              
2Stellarator Theory (ST), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society, ou_1856287              

Inhalt

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Details

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Sprache(n): eng - English
 Datum: 20192019
 Publikationsstatus: Erschienen
 Seiten: -
 Ort, Verlag, Ausgabe: -
 Inhaltsverzeichnis: -
 Art der Begutachtung: Expertenbegutachtung
 Identifikatoren: DOI: 10.1016/j.vacuum.2019.04.060
 Art des Abschluß: -

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Entscheidung

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Projektinformation

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Quelle 1

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Titel: Vacuum
Genre der Quelle: Zeitschrift
 Urheber:
Affiliations:
Ort, Verlag, Ausgabe: Amsterdam : Elsevier B.V.
Seiten: - Band / Heft: 166 Artikelnummer: - Start- / Endseite: 88 - 96 Identifikator: ISSN: 0042-207X
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925450829