In situ Thermal Refractive Index Trimming of Silicon Nitride Waveguides with 
Suspended Heaters

Xue, Tianyuan; Poon, Joyce K. S.; Sacher, Wesley D.

doi:10.1364/CLEO_SI.2023.STu3J.4

In situ Thermal Refractive Index Trimming of Silicon Nitride Waveguides with Suspended Heaters

Xue, T., Poon, J. K. S., & Sacher, W. D. (2023). In situ Thermal Refractive Index Trimming of Silicon Nitride Waveguides with Suspended Heaters. In CLEO: Science and Innovations 2023. Optica Publishing Group. doi:10.1364/CLEO_SI.2023.STu3J.4.

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資料種別: 会議論文

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Xue, Tianyuan¹, 著者
Poon, Joyce K. S.¹, 著者
Sacher, Wesley D.¹, 著者

所属:
1Nanophotonics, Integration, and Neural Technology, Max Planck Institute of Microstructure Physics, Max Planck Society, ou_3287471

内容説明

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要旨: We demonstrate low-power thermal refractive index trimming of silicon nitride waveguides using suspended heaters. An average effective index change of -2.6×10^-3 was achieved at a wavelength of 1550 nm with a power dissipation of 40mW after 1.5 hours.

資料詳細

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日付: オンライン出版: 2023

出版の状態: オンラインで出版済み

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識別子（DOI, ISBNなど）: DOI: 10.1364/CLEO_SI.2023.STu3J.4

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訴訟

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出版物 1

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出版物名: CLEO: Science and Innovations 2023

種別: 会議論文集

著者・編者:

所属:

出版社, 出版地: Optica Publishing Group

ページ: - 巻号: - 通巻号: STu3J.4 開始・終了ページ: - 識別子（ISBN, ISSN, DOIなど）: ISBN: 978-1-957171-25-8

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