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  Defect-induced gap states in Al2O3 thin films on NiAl(110)

Nilius, N., Kulawik, M., Rust, H.-P., & Freund, H.-J. (2004). Defect-induced gap states in Al2O3 thin films on NiAl(110). Physical Review B, 69, 121401–1-121401–4. doi:10.1103/PhysRevB.69.121401.

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基本情報

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資料種別: 学術論文

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:
PhysRevB.69.121401.pdf (出版社版), 545KB
ファイルのパーマリンク:
https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0024-190E-8
ファイル名:
PhysRevB.69.121401.pdf
説明:
-
OA-Status:
閲覧制限:
公開
MIMEタイプ / チェックサム:
application/pdf / [MD5]
技術的なメタデータ:
著作権日付:
2004
著作権情報:
APS
CCライセンス:
-

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作成者

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 作成者:
Nilius, Niklas1, 著者           
Kulawik, Maria1, 著者           
Rust, Hans-Peter1, 著者           
Freund, Hans-Joachim1, 著者           
所属:
1Chemical Physics, Fritz Haber Institute, Max Planck Society, ou_24022              

内容説明

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キーワード: alumina; scanning tunnelling microscopy; defect states; scanning tunnelling spectroscopy; energy gap; insulating thin films
 要旨: The electronic properties of one-dimensional defects in ultrathin Al2O3 films have been investigated by low-temperature STM and STS. Whereas line defects between two oxide domains show almost no topographic contrast in low bias images, they appear with a distinct corrugation at higher positive sample bias. Conductance spectroscopy and imaging reveal three unoccupied states at +2.5, +3.0, and +4.5 V localized along the domain boundaries. The defect-induced states are responsible for the observed contrast variation and originate most likely from a nonstoichiometric oxide composition at the interface between two Al2O3 domains.

資料詳細

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言語: eng - English
 日付: 2004-03-08
 出版の状態: 出版
 ページ: -
 出版情報: -
 目次: -
 査読: 査読あり
 識別子(DOI, ISBNなど): eDoc: 222332
DOI: 10.1103/PhysRevB.69.121401
 学位: -

関連イベント

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訴訟

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Project information

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出版物 1

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出版物名: Physical Review B
  その他 : Phys. Rev. B
種別: 学術雑誌
 著者・編者:
所属:
出版社, 出版地: Woodbury, NY : American Physical Society
ページ: - 巻号: 69 通巻号: - 開始・終了ページ: 121401–1 - 121401–4 識別子(ISBN, ISSN, DOIなど): ISSN: 1098-0121
CoNE: https://pure.mpg.de/cone/journals/resource/954925225008