Molecular size effect in the chemical sputtering of a-C:H thin films by low 
energy H+, H2+, and H3+ ions

Harris, P. R.; Meyer, F. W.; Jacob, W.; Schwarz-Selinger, T.; von Toussaint, U.

doi:10.1016/j.nimb.2010.12.071

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Molecular size effect in the chemical sputtering of a-C:H thin films by low energy H⁺, H₂⁺, and H₃⁺ ions

MPG-Autoren

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Jacob, W.
Plasma Edge and Wall (E2M), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;
Material Research (MF), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

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Schwarz-Selinger, T.
Plasma Edge and Wall (E2M), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;
Material Research (MF), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

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von Toussaint, U.
Plasma Edge and Wall (E2M), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;
Material Research (MF), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

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Zitation

Harris, P. R., Meyer, F. W., Jacob, W., Schwarz-Selinger, T., & von Toussaint, U. (2011). Molecular size effect in the chemical sputtering of a-C:H thin films by low energy H⁺, H₂⁺, and H₃⁺ ions. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 269(11), 1276-1279. doi:10.1016/j.nimb.2010.12.071.

Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0026-EA12-0

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