Secondary electron emission coefficient of C:H and Si:C thin films and some 
relations to their morphology and composition

Groudeva-Zotova, S.; Jacob, W.; Keudell, A. von

doi:10.1016/0925-9635(96)00535-3

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Secondary electron emission coefficient of C:H and Si:C thin films and some relations to their morphology and composition

MPG-Autoren

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Jacob, W.
Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

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Keudell, A. von
Surface Science (OP), Max Planck Institute for Plasma Physics, Max Planck Society;

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Zitation

Groudeva-Zotova, S., Jacob, W., & Keudell, A. v. (1996). Secondary electron emission coefficient of C:H and Si:C thin films and some relations to their morphology and composition. Diamond and Related Materials, 5(10), 1087-1095. doi:10.1016/0925-9635(96)00535-3.

Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0027-8D0A-0

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