Nanofabrication of optical elements for SXR and EUV applicatins: ion beam 
lithography as a new approach

Lenz, J.; Krupp, N.; Wilhein, T.; Irsen, S.

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Konferenzbeitrag

Nanofabrication of optical elements for SXR and EUV applicatins: ion beam lithography as a new approach

MPG-Autoren

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Lenz, J.
Electron Microscopy and Analytics, Center of Advanced European Studies and Research (caesar), Max Planck Society;

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Krupp, N.
Electron Microscopy and Analytics, Center of Advanced European Studies and Research (caesar), Max Planck Society;

/persons/resource/persons182739

Irsen, S.
Electron Microscopy and Analytics, Center of Advanced European Studies and Research (caesar), Max Planck Society;

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Zitation

Lenz, J., Krupp, N., Wilhein, T., & Irsen, S. (2011). Nanofabrication of optical elements for SXR and EUV applicatins: ion beam lithography as a new approach. In 10th Interantional Conference on X-Ray Microscopy (pp. 104-107).

Zitierlink: https://hdl.handle.net/11858/00-001M-0000-0028-60DC-2

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