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Preferential sputtering effects in depth profiling of multilayers with SIMS, XPS and AES

MPG-Autoren
/persons/resource/persons75598

Hofmann,  S.
Emeriti and Others, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;
Department of Physics, Shantou University, 243 Daxue Road, Shantou 515063, Guangdong, China;

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Zitation

Hofmann, S., Zhou, G., Kovac, J., Drev, S., Lian, S. Y., Lin, B., et al. (2019). Preferential sputtering effects in depth profiling of multilayers with SIMS, XPS and AES. Applied Surface Science, 483, 140-155. doi:10.1016/j.apsusc.2019.03.211.


Zitierlink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0004-58D1-D
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