In situ x-ray diffraction and spectro-microscopic study of ALD protected copper 
films

Dogan, G.; Sanli, U. T.; Hahn, K.; Müller, L.; Gruhn, H.; Silber, C.; Schütz, G.; Grévent, C.; Keskinbora, K.

doi:10.1021/acsami.0c06873

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Zeitschriftenartikel

In situ x-ray diffraction and spectro-microscopic study of ALD protected copper films

MPG-Autoren

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Dogan, G.
Dept. Modern Magnetic Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;
Robert Bosch GmbH, Automotive Electronics;

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Sanli, U. T.
Dept. Modern Magnetic Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons76085

Schütz, G.
Dept. Modern Magnetic Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

/persons/resource/persons75670

Keskinbora, K.
Dept. Modern Magnetic Systems, Max Planck Institute for Intelligent Systems, Max Planck Society;

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Zitation

Dogan, G., Sanli, U. T., Hahn, K., Müller, L., Gruhn, H., Silber, C., et al. (2020). In situ x-ray diffraction and spectro-microscopic study of ALD protected copper films. ACS Applied Materials and Interfaces, 12(29), 33377-33385. doi:10.1021/acsami.0c06873.

Zitierlink: https://hdl.handle.net/21.11116/0000-0007-31DF-7

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